Hebei Messi Biology Co., Ltd. weist darauf hin, dass sich der Einsatz von Magnesiumoxid (MgO) in Sputtertargets vor allem durch eine schnelle Schichtbildung, die Verwendung in der Mikroelektronik- und Photovoltaikindustrie, spezifische Herstellungsverfahren sowie vielfältige Beschichtungsanwendungen auszeichnet. Diese Anwendungen machen sich die inhärenten physikalischen und chemischen Eigenschaften von Magnesiumoxid zunutze.
Der Einsatz von Magnesiumoxid (MgO) in Sputtertargets erstreckt sich auf folgende Bereiche:
Schnelle Schichtbildung: MgO-Sputtertargets bestehen hauptsächlich aus MgO und leitfähigen Materialien. Diese spezifische Zusammensetzung verleiht der entstehenden MgO-Schicht während des Gleichstrom-Sputterns (DC-Sputtern) eine bestimmte Orientierung und ermöglicht so eine höhere Schichtbildungsrate.
Anwendungen in der Mikroelektronik und Photovoltaik: Mit dem Wachstum der Mikroelektronik- und Photovoltaikbranche finden hochreine MgO-Targets breite Anwendung in elektronischen Produkten und Photovoltaik-Beschichtungen. Ihre hohe Reinheit minimiert durch Verunreinigungen bedingte Störungen und verbessert so die Produktstabilität sowie die Lebensdauer.
Herstellungsverfahren: Magnesiumoxid ist ein gängiges Material für Hochleistungs-Sputtertargets aus Oxidkeramik. Hochdichte MgO-Targets mit großen Abmessungen werden in einem Verfahren hergestellt, das das Vakuum-Kugelmahlen zur Erzeugung einer Oxidschlicker-Suspension sowie anschließendes Schlickergießen und Sintern umfasst.
Beschichtungsanwendungen: Aus MgO-Sputtertargets gewonnene Dünnschichtbeschichtungen finden breite Anwendung in Bereichen wie LCD-Panels, Touchscreens, Dünnschichtsolarzellen und Leuchtdioden (LEDs). Diese Anwendungen profitieren vom hohen Schmelzpunkt, den hervorragenden Isolationseigenschaften, der Hitzebeständigkeit sowie der Oxidations- und Korrosionsbeständigkeit von Magnesiumoxid.